SONOSYS® Ultraschallsysteme GmbH

SONOSYS® bietet Lösungen im Bereich Ultra-/ Megaschall-Reinigung (400 kHz bis 5 MHz) für verschiedene Anwendungen. Kleinste Partikel bis in den Nanometer-Bereich können schonend abgereinigt werden. SONOSYS® bietet Lösungen im Bereich Ultra- und Megaschall Reinigung für verschiedene Anwendungen. Dabei liegt der Fokus auf höheren Frequenzen zwischen 400 kHz und 5 MHz zur Reinigung kleinster Partikel und Verschmutzungen runter bis in den Nanometer-Bereich. Die Produkte sind komplette SONOSYS®-Eigenentwicklungen vom Generator, über die Schallfelder bestehend aus patentierten Piezo-Keramiken, bis hin zum Megaschall-Gesamtsystem. Nach der Gründung im Jahre 1995 durch Johann Brunner und Joachim Straka wurde die Entwicklung und Produktion nach deutschen und europäischen Standards aufgebaut und kontinuierlich erweitert. Die Lösungen erfüllen höchste Qualitätsansprüche und Zuverlässigkeitsforderungen, wie sie in der Halbleiter-, sowie MEMS- und LIGA-Technologie gestellt werden. Im Mittelpunkt stehen dabei stets die Kundenanforderungen und die Kundenzufriedenheit. So ist beispielsweise in den letzten Jahren eine schonende, aber effiziente Reinigung von Mikrostrukturen immer mehr in den Fokus gerückt, welche von SONOSYS®-Lösungen exzellent bedient wird. Hauptanwendungsfelder sind u.a. die professionelle Reinigung von Halbleiter-Wafern, Photomasken, Mikrostrukturen, MEMS und Optiken. Getreu dem Firmen-Motto: „Mastering nanoClean together“ werden dabei die Kundenbelange direkt und indirekt (über OEMs) zusammen beleuchtet um am Schluss beste Reinigungsergebnisse bis in den Nanometer-Bereich zu erreichen. In den nun 25 Jahren am Markt wurden dabei mehr als 4.500 Systeme ausgeliefert und zahlreiche namhafte Kunden der Halbleiter- und MEMS-Industrien weltweit bedient.